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发明名称 METHOD FOR FABRICATING LITHOGRAPY MASK
摘要
申请公布号 KR0156119(B1) 申请公布日期 1999.02.01
申请号 KR19940007094 申请日期 1994.04.04
申请人 LG SEMICONDUCTOR CO., LTD. 发明人 LEE, JUN-SUK;KANG, CHAN-HO
分类号 H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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