发明名称 A PROCESS FOR PHOTORESIST REMOVAL
摘要
申请公布号 KR20000076362(A) 申请公布日期 2000.12.26
申请号 KR19997008464 申请日期 1999.09.17
申请人 发明人
分类号 G03F7/42;H01L21/027;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/311 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
主权项
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