曝光方法及装置、以及元件制造方法

摘要

提供一种曝光方法，对双重曝光用之各图案全面能用最佳照明条件实施照明，且能以高产率进行曝光。以扫描曝光方式将标线片(R)的图案转印于晶圆(W)上时，在标线片(R)上形成于扫描方向相邻之第1、第2图案区域，当该第1、第2图案区域同时通过投影光学系统(PL)之视野内时，使用其扫描方向宽度逐渐缩小之第1照明狭缝(10AP)且以第1照明条件对该第1图案区域施以照明，使用其扫描方向宽度逐渐扩大之第2照明狭缝(10BP)且以第2照明条件对该第2图案区域施以照明，藉此对晶圆(W)实施曝光。