曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法

摘要

曝光装置(EX)，具备光学系统(PL)，其系将具有第1波长之第1曝光用光(EL1)照射于第1曝光区域(AR1)，并将具有异于第1波长之第2波长的第2曝光用光(EL2)照射于第2曝光区域(AR2)；藉由以照射于第1曝光区域(AR1)之第1曝光用光(EL1)而形成之第1图案(PA1)像、以及以照射于第2曝光区域(AR2)之第2曝光用光(EL2)而形成之第2图案(PA2)像，来使基板(P)上的既定区域(S)多重曝光。