| 主权项 |
1. 一种触媒组合物,包括磷与具有包含下列谱线之X-射线绕射图形之沸石之组合:2. 根据申请专利范围第1项之组合物,又包括基质物质。3. 根据申请专利范围第1或2项之组合物,又包括触媒性裂解成份。4. 根据申请专利范围第3项之组合物,其中触媒性裂解成份系选自具有限制指数小于1之分子筛及具有孔径在13至200埃之中孔隙结晶物质。5. 根据前述申请专利范围第1项之组合物,其中磷含量系0.1至1.5重量%。6. 一种制造申请专利范围第1项之触媒组合物之方法,包括使含该沸石之浆体与磷来源接触;氧气存在且温度系150-750℃下加热该经磷改质的沸石;并自该经磷改质之沸石形成触媒颗粒之步骤。7. 根据申请专利范围第6项之方法,其中磷来源系选自磷酸一氢铵,磷酸二氢铵,磷酸三铵,次磷酸铵,正磷酸铵,正磷酸二氢铵,正磷酸一氢铵,次亚磷酸铵,次亚磷酸二氢铵,磷酸及其混合物。8. 一种催化裂解制程,包括于370-700℃温度下使重质烃 |
