| 主权项 |
1. 一种具有表面起伏结构之绕射装置,当其由一光源照明时,产生一种或多种绕射像,此等像系可自围绕此装置之特殊视角范围观察者,其中至少部分之表面起伏结构系呈一列之轨迹配置,各轨迹有一绕射表面,此等表面产生绕射像之一部分,因而使得由绕射装置所产生之绕射像之至少一者系从源自于多个轨迹所产生之像部分所形成者,以及其中至少有若干个轨迹在其表面上具有绕射槽或其他形状,此等槽或其他形状以沿着轨迹之定向、曲线率和间隔之方式而连续不断地变化,此定向、曲线率和间隔上之变化即为一种像信息藉之而被编码进入轨迹内之方式。2. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中各轨迹有一低于0.25毫米之宽度。3. 如申请专利范围第1项或第2项之绕射装置,其中此轨迹系笔直并平行者。4. 如申请专利范围第1项或第2项之绕射装置,其中此轨迹形成一同心圆之区域。5. 如申请专利范围第1项或第2项之绕射装置,其中此轨迹系呈曲线之形状。6. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中该表面起伏结构之一区域会产生可自不同之视角范围观察到之两种不同的绕射像,且位在该区域上之第一组轨迹产生绕射像中之一者,而被散置于该第一组之间的第二组轨迹产生另一绕射像。7. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中在某些轨迹上,该绕射表面包含一列之大致上横越该轨迹而定向的槽,以及在某些轨迹上,该绕射表面包含一列的大致上沿着该轨迹而定向之槽。8. 如申请专利范围第1项之绕射装置,它包括具有槽之轨迹,该等槽大致上在轨迹之长度方向呈周期地起伏波状。9. 如申请专利范围第1项之绕射装置,它包括在其绕射表面含有岛区之轨迹,该等岛区具有大致上循轨迹之长度伸展的槽,该等岛区为平坦区所环绕。10. 如申请专利范围第9项之绕射装置,其中该等平坦区系以微写器作浮雕或印刷。11. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中由该装置所产生之一像系为一均匀或空白像,该像可藉在选定轨迹上之绕射表面区之实质消毁或修改而被编码以像信息,俾以产生对应之扩散反射区。12. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中在某些轨迹上,该绕射表面包含一被刻压至轨迹表面内之变化角度定向之平行四边形之图型。13. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中在某些轨迹上,该绕射表面之部分被指派以在像平面内产生灰度标之像信息。14. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中在某些轨迹上,该绕射表面之部分被指派以在像平面内产生颜色效应。15. 如申请专利范围第14项之绕射装置,其中当该装置系沿位于其本身平面内之轴线而被倾斜时,该颜色效应显现出沿着该像平面中之一路径而移动。16. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中源自于由该装置所产生的像之像信息,系沿着某些轨迹之长度以一模拟方式被编码,各轨迹产生像之线,由那些轨迹所形成之该等等线组合起来而形成该像。17. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中源自于由该装置所产生的像之像信息,系沿着某些轨迹之长度以一数字方式被编码,各轨迹产生像之线,由那些轨迹所形成之该等等线组合起来而形成该像。18. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中某些轨迹包括扩散反射区。19. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中某些轨迹包括镜面反射区。20. 如申请专利范围第1项之绕射装置,其中定向、曲线率和间隔上之变化可以藉两个变数之数学函数来说明,其中除了沿着各轨路内之某些特性线以外,第二导数之赫斯系非消失者。图示简单说明:第1图为依据本发明之一实施例之绕射装置上,一表面起伏结构区之示意性象徵。第2图为第1图之表面起伏结构之部分之示意性象徵。第3图为第1图之表面起伏结构之其他部分之示意性象徵。第4图为使用于依据本发明之一实施例之绕射装置中之两部分轨迹之更详细之示意性象徵。第5图为在本发明之另一实施例中两相邻轨迹之部分之详细示意性象徵。第6图显示依据本发明之一实施例之一轨迹部分之示意性象徵。第7图显示依据本发明之一实施例之两相邻轨迹之部分之示意性象徵。第8图显示依据第4图内所示一型实施例之两相邻轨迹之区域之由电脑所产生之详细象徵。第9图显示表面起伏结构区之由电脑所产生之详细象徵,此结构显示依据第5图内所示一型实施例之若干轨迹。第10图为依据本发明另一实施例之两接邻轨迹之部分之以电脑产生之详细象徵。第11图为依据本发明另一实施例之两接邻轨迹之部分之以 |
