主权项 |
1. 一种阴极射线管,备有由下述各部分构成之三层低反射涂层:高折射率透明导电层,形成于萤光屏之外表面;平滑之低折射率透明层,形成于该高折射率透明导电层之外表面;及具有凹凸之低折射率透明层,形成于该平滑之低折射率透明层之外表面;其特征为:至少于其中一层添加有黄色染料或颜料。2. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第一层之高折射率透明导电层添加有黄色染料或颜料。3. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第二层之平滑之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。4. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第三层之具有凹凸之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。5. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第一层之高折射率透明导电层及第二层之平滑之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。6. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第一层之高折射率透明导电层及第三层之具有凹凸之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。7. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第二层之平滑之低折射率透明层及第三层之具有凹凸之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。8. 如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中,于自萤光屏之外表面观察之第一层之高折射率透明导电层及第二层之平滑之低折射率透明层以及第三层之具有凹凸之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。9. 如申请专利范围第2至8项中任一项之阴极射线管,其中,第一层之高折射率透明导电层系由SnO@ss2或In@ss2O@ss3微粒子与黑色系着色导电性微粒子构成。10.如申请专利范围第3.4或7项之阴极射线管,其中,第一层之高折射率透明导电层系由依CVD法形成之SnO@ss2构成。11. 一种阴极射线管,备有由下述各部分构成之二层低反射涂层;第一层之高折射率透明导电层,形成于萤光屏之外表面;及第一层之平滑之低折射率透明层,形成于该第一层之高折射率透明导电层之外表面;其特征为:至少于其中一层添加有黄色染料或颜料。12. 如申请专利范围第11项之阴极射线管,其中,在第一层之高折射率透明导电层添加有黄色染料或颜料。13. 如申请专利范围第11项之阴极射线管,其中,在第二层之平滑之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。14. 如申请专利范围第11项之阴极射线管,其中,在第一层之高折射率透明导电层与第二层之平滑之低折射率透明层添加有黄色染料或颜料。15. 如申请专利范围第12项至14项中任一项之阴极射线管,其中,在第一层之高折射率透明导电层系由SnO@ss2或In@ss2O@ss3微粒子与黑色系着色导电性微粒子构成。16. 如申请专利范围第13项之阴极射线管,其中,第一层之高折射率透明导电层系由依CVD法形成之SnO@ss2构成。图示简单说明:图1为依本发明之实施例1之三层低反射涂层之示意剖面图。图2为依实施例1之三层低反射涂层之示意剖面图。图3为依实施例2之三层低反射涂层之示意剖面图。图4为依实施例3之三层低反射涂层之示意剖面图。图5为依实施例4之三层低反射涂层之示意剖面图。图6为依实施例5之三层低反射涂层之示意剖面图。图7为依实施例6之三层低反射涂层之示意剖面图。图8为依实施例7之三层低反射涂层之示意剖面图。图9为依实施例8之三层低反射涂层之示意剖面图。图10为依实施例9之二层低反射涂层之示意剖面图。图11为依实施例9之二层低反射涂层之反射光谱。图12为依实施例10之二层低反射涂层之示意剖面图。图13为习用之三层低反射涂层之示意剖面图。图14为习用之二层低反射涂层之示意剖面图。 |