| 发明名称 | 沉淀二氧化硅 | ||
| 摘要 | 用碱金属硅酸盐与无机酸在６０—９５℃温度下反应制备的沉淀二氧化硅，在反应期间保持ｐＨ为７．５—１０．５并连续搅拌反应持续到在有沉淀的悬浮液中固体浓度达到９０—１２０ｇ／１调整ｐＨ到小于或等于５，滤出沉淀、洗涤、干燥和必要时研磨或料化该沉淀二氧化硅。其各参数为：ＢＥＴ表面积３５—３５０ｍ<SUP>2</SUP>/g;BET/CTAB比0.8—1.1;孔体积1.6—3.4ml/g;硅烷醇基团密度6—20ml(NaOH消耗);平均聚集体大小250—1500nm;CTAB表面积30—350ｍ<SUP>2</SUP>/g。 | ||
| 申请公布号 | CN1036990C | 申请公布日期 | 1998.01.14 |
| 申请号 | CN94117058.6 | 申请日期 | 1994.10.05 |
| 申请人 | 底古萨股份公司 | 发明人 | Ｈ·埃施;Ｕ·戈尔;Ｒ·库尔曼;Ｒ·劳施 |
| 分类号 | C01B33/187 | 主分类号 | C01B33/187 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 任宗华 |
| 主权项 | 1.由下列物理化学参数为特征的沉淀二氧化硅：BET表面积比 35-350m2/gBET/CTAB表面积比 0.8-1.1孔体积，PV 1.6-3.4ml/g硅烷醇基团密度(V2＝ 6-20ml NaoH消耗量)平均聚集体大小 250-1500nmCTAB表面积 30-350m2/gDBP值 150-300ml/100gV2/V1，压汞法测定孔隙体积 0.19-0.46DBP/CTAB 1.2-2.4 | ||
| 地址 | 联邦德国哈瑙 | ||