发明名称 A PHOTHOSENSITIVE COMPOSITION, A METHOD OF FORMING A PATTERN AND ELECTRONIC PARTS
摘要
申请公布号 KR100245180(B1) 申请公布日期 2000.02.15
申请号 KR19970021290 申请日期 1997.05.28
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 RIKAKO, KANI;YOSHIHIKO, NAKANO;SHUJI, HAYASE
分类号 C08K5/14;G03F7/075;(IPC1-7):G03F7/075 主分类号 C08K5/14
代理机构 代理人
主权项
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