MATIERE POUR PHOTORESERVES

摘要

MATIERE POUR PHOTORESERVES; ELLE EST CONSTITUEE D'UN POLYMERE DANS LEQUEL DES RADICAUX CHLOROMETHYLES SONT INTRODUITS ET QUI CONTIENT DE L'ISOPROPENYL-2 NAPHTALENE COMME UN DE SES COMPOSANTS, ET QUI A UN DEGRE MOYEN DE SUBSTITUTION PAR LES RADICAUX CHLOROMETHYLES PAR RAPPORT AU POLYMERE COMPRIS DANS LA GAMME DE 0,2 A 5; CETTE MATIERE QUI A UN POINT DE TRANSITION VITREUSE ELEVE, UNE GRANDE SENSIBILITE AUX RAYONNEMENTS ET UNE EXCELLENTE RESISTANCE A L'ATTAQUE A SEC CONVIENT A L'EMPLOI POUR LA FABRICATION D'ELEMENTS SEMI-CONDUCTEURS PAR EMPLOI DE RAYONNEMENT ET FOURNIT UNE BONNE RESOLUTION APRES ATTAQUE.