显示管之高频加热装置及高频加热方法

摘要

本发明之目的有抑制在除气器之附近位置之间隔框之发热。在除气器1 施行高频加热之高频加热用心体之附近，沿着外围器10之侧面板16使其侧面部15a 设置，由底面部15b 接触于间隔框7 之表面7a 之状态将铁酸磁铁制之磁铁15 固定设置，预先对于间隔框7 施加静磁场，间隔框7为，在磁化曲线之磁滞中，放置于磁场增加时磁通密度机乎不变化之磁饱和状态之磁场内。此后，由交流电源 4 向高频加热用线圈3 流通高频电流而使除气器1 施行高频加热时，间隔框7 为，在磁化曲线之磁滞中，不沿着初期磁化曲线变化，而且磁通密度之变化极小，发热可以抑制。

主权项

1. 一种显示管之高频加热装置,在用以加热显示管等被加热体之高频加热用心体之附近,配置对于设置在由该心体流出之漏磁通可及之范围之导体配件接触或接近而对于该导体配件施加静磁场之装置为特征者。2. 如申请专利范围第1项所记载之显示管之高频加热装置,对于前述导体配件施加静磁场之装置为铁酸 磁体(ferrite)制之磁铁以固定或可移动之状态配置为特征者。3. 一种显示管之高频加热装置,在于对于配置在显示管之外围器内之除气器(getter)加热而在前述外围器之内壁面形成除气镜面(getter mirror)所需之高频加热用心体之附近,由对于前述显示管之间隔框(spacerfarme)接触之状态以固定或可移动之状态配置铁酸 磁体制之磁铁为特征者。4. 一种显示管之高频加热装置,在于对于配置在显示管之外围器内之除气器加热而在前述外围器之内壁面形成除气镜所需之高频加热用心体之附近,对于前述显示管之间隔框由磁场所及之范围接近之状态以固定或可移动可能之状态配置铁酸 磁体制之磁铁为特征者。5. 一种显示管之高频加热装置,在于对于配置在显示管之外围器内之除气器加热而在前述外围器之内壁面形成除气镜面所需之高频加热用心体之两侧配置铁酸 磁体制之磁铁,一方之铁酸 磁体制之磁铁为,在前述高频加热用心体之附近,由对于前述显示管之间隔框接触之状态以固定或可移动之状态配置,另一方之铁酸 磁体制之磁铁为,对于前述外围器之外周面接触或接近之状态以固定或可移动之状态配置为特征者。6. 一种显示管之高频加热装置,在于对于配置在显示管之外围器内之除气器加热而在前述外围器之内壁面形成除气镜面所需之高频加热用心体之两侧配置铁酸 磁体制之磁铁,一方之铁酸 磁体制之磁铁为,在前述高频加热用心体之附近,对于前述显示管之间隔框由磁场所及之范围接近之状态以固定或可移动之状态配置,另一方之铁酸磁体制之磁铁为,由对于前述外围器之外周面接触或接近之状态以固定或可移动之状态配置为特征者。7. 一种显示管之高频加热方法,对于导体所形成之被加热体之一部分将铁酸 磁体制之磁铁接触或接近而施加静磁场后,施行高频加热使前述被加热体选择性加热为特征者。8. 一种显示管之高频加热方法,对于显示管之引线框(lead frame)将铁酸 磁体制之磁铁接触或接近而施加静磁场后,配置于前述显示管之外围器内之除气器经过高频加热而在前述外围器之内壁面形成除气镜面为特征者。图示简单说明:图1表示本发明之高频加热装置之第1实施例。图2表示同装置之第2实施例之图。图3(a),(b)表示同装置之第1实施例之变形例之图。图4(a),(b)表示同装置之第2实施例之变形例之图。图5表示同装置之第3实施例之图。图6表示同装置之第4实施例之图。图7(a),(b)表示同装置之第3实施例之变形例之图。图8(a),(b)表示同装置之第4实施例之变形例之图。图9(a),(b)表示同装置之第5实施例之图。图10表示同装置之第6实施例之图。图11表示磁化曲线之磁滞之图。