| 发明名称 | 光源装置、基板处理装置、基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光源装置，该光源装置由包含等离子体的形成区域，在上述等离子体的形成区域中，通过无电极放电形成等离子体而产生发光的等离子体形成室；和划分在上述等离子体形成室中的等离子体的形成区域的下端，透过上述发光的光学窗构成，在上述等离子体形成室内，形成有用于导入生成上述等离子体的微波的微波透过窗，而且，在上述微波透过窗的外侧设置有与上述微波窗结合、导入上述微波的微波天线。 | ||
| 申请公布号 | CN101341582A | 申请公布日期 | 2009.01.07 |
| 申请号 | CN200780000830.2 | 申请日期 | 2007.01.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 大岛康弘;高桥伸明 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01);H05H1/46(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘春成 |
| 主权项 | 1.一种光源装置，其特征在于，包括：包含等离子体形成区域，在所述等离子体形成区域中，通过无电极放电形成等离子体而产生发光的等离子体形成室；和划分在所述等离子体形成室中的等离子体形成区域的下端，透过所述发光的光学窗，在所述等离子体形成室内，形成有导入用于生成所述等离子体的微波的微波透过窗，并且在所述微波透过窗的外侧，设置有与所述微波窗结合，导入所述微波的微波天线。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||