超薄磁屏蔽片材料及其制备方法

摘要

本发明提供一种超薄磁屏蔽片材料及其制备方法。该超薄磁屏蔽片材料由铁氧体、粘接剂、添加剂、表面活性剂制成，厚度为0.001-0.08mm；具体制备步骤包括：配料、混料、一次球磨、压制成块、预烧结、二次球磨、制浆、喷涂、二次烧结，最终得到的超薄磁屏蔽片在13.56MHz下的复数磁导率为μ’＝70-200，μ”≤3。该方法制备工艺简单可靠，成材率高，节能环保，且磁片厚度可以根据性能需求自由控制；采用该方法制备的超薄磁片，具有优良的磁屏蔽性能，符合电磁复合材料轻薄化、功能化、节能环保趋势的发展要求，能够满足触控屏、电子印刷等进一步加工设计需求。

主权项

一种超薄磁屏蔽片材料，其特征在于，所述超薄磁屏蔽片材料由铁氧体、粘接剂、添加剂、表面活性剂制成；所述超薄磁屏蔽片材料厚度为0.001‑0.08mm。