| 摘要 |
본 발명은 플라즈마 에칭 후 잔류물을 그 잔류물을 상부에 갖는 마이크로전자 장치로부터 세정하기 위한 세정 조성물 및 방법에 관한 것이다. 상기 조성물은 상기 마이크로전자 소자로부터 티탄 함유, 구리 함유, 텅스텐 함유 및/또는 코발트 함유 에칭 후 잔류물을 비롯한 잔류물 물질을 매우 효과적으로 세정하는 동시에, 또한 이에 존재하는 내층 유전체, 금속 상호접속 물질 및/또는 캡핑층에 손상을 주지 않는다. 또한, 상기 조성물은 질화티탄층을 이를 상부에 갖는 마이크로전자 소자로부터 제거하는 데 유용할 수 있다. |
