| 发明名称 |
EXPOSURE OF RESIST AND PERIPHERAL ALIGNER OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06342753(A) |
申请公布日期 |
1994.12.13 |
| 申请号 |
JP19930131858 |
申请日期 |
1993.06.02 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KOTO ISAO;NAKAHARA TSUYOSHI;TOKITA KAZUAKI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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