FeXN Deposition process based on helicon sputtering,申请号GB19990019407-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	FeXN Deposition process based on helicon sputtering
摘要
申请公布号	GB9919407(D0)	申请公布日期	1999.10.20
申请号	GB19990019407	申请日期	1999.08.18
申请人	RTC SYSTEMS LTD	发明人
分类号	C23C14/06;C23C14/35	主分类号	C23C14/06
代理机构		代理人
主权项
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