| 发明名称 | 电化学边缘和斜面清洁工艺及系统 | ||
| 摘要 | 公开了一种边缘清洁系统和方法，其中，温和的蚀刻溶液(230)的定向流被提供到旋转工件(100)的边缘区域，包括前表面边缘和斜面，同时维持工件与定向流之间的电势差。一方面，本发明提供了一种边缘清洁系统，它被安置在用于工件沉积或去除处理的同一处理室中。另一方面，用于边缘去除的温和蚀刻溶液还被用来清洁晶片的前表面，或者与边缘去除工艺同时进行，或者顺序进行。 | ||
| 申请公布号 | CN1636267A | 申请公布日期 | 2005.07.06 |
| 申请号 | CN02827672.8 | 申请日期 | 2002.12.23 |
| 申请人 | 纳托尔公司 | 发明人 | 布林特·M·巴索 |
| 分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1、一种使用蚀刻溶液和与蚀刻溶液接触的蚀刻电极，从工件导电层的斜面边缘，包括导电层的前面边缘表面除去导电材料的方法，该方法包括下面步骤：旋转工件；引导蚀刻溶液的连续流流向工件的斜面边缘，包括导电层的前面边缘表面，同时旋转工件；以及在引导步骤进行时，在电极和工件导电层之间施加电势差。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||