Exposure control method and photographic copier.

摘要

Zur bereichsweisen Beeinflussung der Dichte einer zu erstellenden Kopie (P) einer Kopiervorlage (N) wird das Kopierlicht einer Kopierlichtquelle (6) bereichsweise durch eine Maske (11) mit unterschiedlichen Dichtebereichen abgeschwächt. Die Auswahl eines geeigneten Maskenbereiches erfolgt durch Analyse des ortabhängigen Dichtverlaufes der Kopiervorlage (N) und durch Vergleich mit dem in Matrixform in der Rechen- und Auswerteeinheit (5) abgelegten ortsabhängigen Dichteverlauf der Maske (11) nach vorgebbaren Kriterien. Das zugehörige fotografische Kopiergerät weist in der Belichtungsstation (2) eine auf einer Verschiebeeinrichtung (12) angeordnete Maske (11) auf. Die Verschiebeeinrichtung(12) ist gemäss in der Rechen- und Steuereinheit (5) durch Vergleich ermittelten und generierten Steuersignalen in einer zur Tränsportebene (T) der Kopiervorlage (N) parallelen Ebene (E) im Strahlengang (L) einer Kopierlichtquelle (6) verschiebbar. <IMAGE>