摘要 |
Hedef malzemeleri ve öz maddelerin saglanmasi; kesilmis partikülat hedef malzemeleri olusturmak için hedef malzemelerin kesilmesi ve öz malzemelerin kesilmis partikülat hedef malzemeler ile kaplanmasi yoluyla öz malzemelerin kaplanmasi yöntemleri, buradaki yöntem yaklasik 10 Torr veya daha yüksek bir basinçta gerçeklesir. Partiküllerin nanometre ile birkaç nanometre kalinligindaki kaplamalarla, atmosfer basincinda ve pnömatik akicilastirma kullanilarak kaplanmasi yöntemleri de sunulur.
|