发明名称 PROCEDES DE PRODUCTION D'UNE POUDRE ET D'UN CORPS FRITTE D'OXYDE D'INDIUM ET D'OXYDE D'ETAIN ET POUDRE AINSI OBTENUE
摘要 <P>L'invention concerne un procédé de production d'une poudre d'indium et d'oxyde d'étain qui comprend l'introduction dans l'eau à 40 deg.C ou plus et moins de 100 deg.C et la réaction d'une solution aqueuse d'un sel d'indium, solution aqueuse d'un sel d'étain et d'une solution alcaline aqueuse de manière que le pH soit maintenu pendant la réaction dans le domaine de 4 à 6, la formation d'un précipité, le lavage du précipité formé après une séparation solide-liquide et la calcination du précipité à une température supérieure ou égale à 600 deg.C et inférieure ou égale à 1 300 deg.C, une poudre d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain obtenue par ce procédé et un procédé de production d'un corps fritté d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain par moulage et frittage de ladite poudre d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain.</P>
申请公布号 FR2742140(A1) 申请公布日期 1997.06.13
申请号 FR19960015001 申请日期 1996.12.06
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LIMITED 发明人 FUJIWARA SHINJI;HASEGAWA AKIRA;SAEGUSA KUNIO
分类号 C01G19/00;C04B35/457;H01B1/08;(IPC1-7):C01G19/02;C01G15/00 主分类号 C01G19/00
代理机构 代理人
主权项
地址