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发明名称
新規形態のケイ素およびその作製方法
摘要
本発明は、新規な相のケイ素Si24、およびその作製方法に関する。Si24は、1.34eVの直接ギャップ値および1.3eVの間接ギャップ値をもつ擬似的直接バンドギャップを有する。本発明は、また、式Na4Si24の化合物、およびその作製方法に関する。Na4Si24は、Si24を作製するための前駆体として使用できる。
申请公布号
JP2016523806(A)
申请公布日期
2016.08.12
申请号
JP20160525426
申请日期
2014.07.08
申请人
カーネギー インスチチューション オブ ワシントン
发明人
ストローベル,ティモシー,エー.;キム,ダック,ヤング;クラクヴィチ,オレクサンダー,オー.
分类号
C01B33/02;C01B33/06
主分类号
C01B33/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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