发明名称 新規形態のケイ素およびその作製方法
摘要 本発明は、新規な相のケイ素Si24、およびその作製方法に関する。Si24は、1.34eVの直接ギャップ値および1.3eVの間接ギャップ値をもつ擬似的直接バンドギャップを有する。本発明は、また、式Na4Si24の化合物、およびその作製方法に関する。Na4Si24は、Si24を作製するための前駆体として使用できる。
申请公布号 JP2016523806(A) 申请公布日期 2016.08.12
申请号 JP20160525426 申请日期 2014.07.08
申请人 カーネギー インスチチューション オブ ワシントン 发明人 ストローベル,ティモシー,エー.;キム,ダック,ヤング;クラクヴィチ,オレクサンダー,オー.
分类号 C01B33/02;C01B33/06 主分类号 C01B33/02
代理机构 代理人
主权项
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