METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER,申请号JP19890298532-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	METHOD FOR CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号	JPH03159123(A)	申请公布日期	1991.07.09
申请号	JP19890298532	申请日期	1989.11.16
申请人	MITSUBISHI MATERIALS CORP;JAPAN SILICON CO LTD	发明人	TATSUTA JIRO;TANAKA TOSHIRO
分类号	H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
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