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发明名称 Verfahren zum Behandeln eines Substrats in einer Vakuumbehandlungskammer
摘要
申请公布号 DE69518710(T2) 申请公布日期 2001.05.23
申请号 DE1995618710T 申请日期 1995.09.26
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 TSENG, MENG CHU;CHANG, MEI;SRINIVAS, RAMANUJAPURAM A.;RINNEN, KLAUS-DIETER;EIZENBERG, MOSHE;TELFORD, SUSAN
分类号 C23C16/44;C23C16/02;C23C16/42;C23C16/56;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/285;(IPC1-7):C23C16/42 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
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