发明名称 生产层排列的方法,生产电气元件、层排列和电气元件的方法
摘要 利用一种生产层排列的方法形成一种基本上含碳的导电碳层。在该碳层上形成一种保护层。在该保护层上形成一种电绝缘层,该保护层防止该碳层在该电绝缘层的形成期间受到损伤。此外,提出一种层排列,该层排列具有基本上含碳的导电碳层,在该碳层上形成的保护层,以及在该保护层上形成的电绝缘层,该保护层用于避免该碳层受到该电绝缘层的损伤。
申请公布号 CN100456419C 申请公布日期 2009.01.28
申请号 CN200610163749.3 申请日期 2006.11.24
申请人 奇梦达股份公司 发明人 G·杜斯伯格;M·利鲍;F·科鲁普尔;C·卡普泰恩
分类号 H01L21/02(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/82(2006.01);H01L29/92(2006.01);H01L23/522(2006.01);H01L27/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 余刚;李丙林
主权项 1.一种生产层排列的方法,包括:形成一种含碳的导电碳层;在该碳层上形成一种由一种或多种选自由碳化硼、碳化铬、碳化铌、碳化硅、碳化钛、碳化铪、碳化钽、碳化钨、碳化锆的碳化物组成的组的材料的保护层;在该保护层上形成一种电绝缘层,该保护层防止该碳层在该电绝缘层的形成期间遭受损伤。
地址 德国慕尼黑