发明名称 - Composition for chemically polishing alluminium after deep-drawing process and the process for chemically polishing the surface of alluminium thereby
摘要 본 발명은 알루미늄-딥드로잉 공정 후처리를 위한 화학적 연마용 조성물 및 이를 이용한 알루미늄의 화학적 연마 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 알루미늄 잉곳을 성형할 때 제품 표면에서 금속광택이 유실되고 경계가 발생하는 문제를 개선하기 위하여 알루미늄의 표면을 연마함으로써 금속광택을 개선하고, 평균조도를 저하하는 알루미늄의 화학적 연마 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR101638699(B1) 申请公布日期 2016.07.11
申请号 KR20140157421 申请日期 2014.11.12
申请人 금오공과대학교 산학협력단 发明人 곽현근;최정주;오명훈;우동균;박종문;이현호
分类号 C23F1/20;C23F3/03 主分类号 C23F1/20
代理机构 代理人
主权项
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