| 发明名称 |
MEANS FOR MEASURING RADIATION RATE OF SUBSTRATE OF SUBSTRATE TREATMENT DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04218736(A) |
申请公布日期 |
1992.08.10 |
| 申请号 |
JP19900403742 |
申请日期 |
1990.12.19 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SHIMAMURA HIDEAKI;OKAMOTO AKIRA;NISHITANI EISUKE;KOBAYASHI HIDE;TSUJIKU SUSUMU;YONEOKA YUJI |
| 分类号 |
C23C14/54;F27D21/00;G01J5/00 |
主分类号 |
C23C14/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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