| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage mit Wellenlängen <= 193 nm, bevorzugt <= 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen, wobei das Licht einer Lichtquelle in eine Feldebene (129) geleitet wird, umfassend ein optisches Element (102) mit einer Vielzahl von Feldrasterelementen (309), das in einer Ebene (150) in einem Lichtweg von der Lichtquelle (101) zur Feldebene (129) nach der Lichtquelle (101) angeordnet ist, wobei in der Ebene (150) eine Ausleuchtung zur Verfügung gestellt wird und wenigstens ein Teil der Vielzahl von Feldrasterelementen (309) in der Ebene (150) nicht vollständig ausgeleuchtet wird und eine Vorrichtung zur Einstellung der Ausleuchtung der nicht vollständig ausgeleuchteten Feldrasterelemente vorgesehen ist, mit der eine Uniformität eines ausgeleuchteten Feldes (131) in der Feldebene (129) eingestellt werden kann.
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