| 主权项 |
1.一种监测冶金制程中的情况的探针系统,包含:探针,具有用来产生指示冶金制程中的情况的电压讯号的电路,其中电压讯号的数値随该情况的改变而改变,及阻抗监测机构,电连接于该探针电路,用来产生指示探针电路的阻抗的讯号以决定探针电压讯号的可靠性,包含用来产生指示探针电路的操作状态的讯号的机构。2.如申请专利范围第1项的探针系统,其中阻抗监测机构在不干扰探针电路电压讯号的DC位准下被动地产生该阻抗讯号。3.如申请专利范围第2项的探针系统,其中阻抗监测机构经由耦合电容器电连接于该探针电路,以防止电压从该阻抗监测机构传送至该探针电路而改变探针电路的电压讯号。4.如申请专利范围第1项的探针系统,其中阻抗监测机构包含用来产生AC电压的振荡器机构及已知阻抗机构,该已知阻抗机构串联连接于该振荡器机构与该探针电路之间。5.如申请专利范围第4项的探针系统,其中阻抗监测机构另外包含连接在该已知阻抗机构与该探针电路之间的具有输入的带通滤波机构,用来转换由振荡器机构的AC分压形成的电压讯号成为残余电压。6.如申请专利范围第5项的探针系统,其中阻抗监测机构另外包含用来计算振荡器机构的输出电压与由带通滤波机构所产生的残余电压之间的比以决定探针电路的阻抗的机构。7.如申请专利范围第6项的探针系统,其中该比计算机构包含用来转换该输出及残余电压从AC至DC的机构。8.如申请专利范围第1项的探针系统,其中该探针为电压讯号于熔渣的引入熔融金属流时改变的熔渣侦测器。9.如申请专利范围第1项的探针系统,其中该探针为电压讯号随该金属的温度改变的热电偶。10.如申请专利范围第1项的探针系统,其中该探针为电压讯号输出随液体金属内的杂质比例改变的杂质侦测器。11.一种监测冶金制程中的情况的探针系统,包含:探针,具有用来产生指示冶金制程中的金属的情况的电压讯号的电路,其中电压讯号的数値随该情况的改变而改变;及阻抗监测机构,经由至少一耦合电容器电连接于该探针电路,用来连续产生指示探针电路的阻抗的讯号以在不干扰该讯号下决定该讯号的可靠性,包含用来产生指示探针电路的操作状态的讯号的机构。12.如申请专利范围第11项的探针系统,其中由该探针电路所产生的电压讯号小于20伏特DC。13.如申请专利范围第12项的探针系统,其中由该探针电路所产生的电压讯号小于1伏特DC。14.如申请专利范围第12项的探针系统,其中阻抗监测机构包含用来产生具有1与10KHz之间的频率的AC电压的振荡器机构。15.如申请专利范围第14项的探针系统,其中阻抗监测机构另外包含用来调整该AC电压的尖峰电压的机构。16.如申请专利范围第14项的探针系统,其中阻抗监测机构另外包含串联连接在该振荡器机构与该探针电路之间的已知阻抗机构。17.如申请专利范围第16项的探针系统,其中该已知阻抗机构包含多个已知阻抗,及用来根据探针型式将该已知阻抗之一串联连接于振荡器机构与该探针电路之间的切换机构。18.如申请专利范围第16项的探针系统,其中阻抗监测机构另外包含连接在该已知阻抗机构与该探针电路之间的具有输入的带通滤波机构,用来过滤干扰频率,及用来转换由振荡器机构的AC分压形成的电压讯号成为残余电压。19.如申请专利范围第18项的探针系统,其中阻抗监测机构另外包含用来计算振荡器机构的输出电压与由带通滤波机构所产生的残余电压之间的比以决定探针电路的阻抗的机构,该比计算机构包含用来转换该输出及残余电压从AC到DC的机构。20.如申请专利范围第13项的探针系统,其中该探针为电压讯号于熔渣的引入熔融金属流时改变的熔渣侦测器。21.如申请专利范围第12项的探针系统,其中该探针为电压讯号随该金属的温度改变的热电偶。22.如申请专利范围第12项的探针系统,其中该探针为讯号随液体金属中存在的硫量改变的硫侦测探针。23.如申请专利范围第12项的探针系统,其中该探针为讯号随液体金属中存在的氧量改变的氧侦测探针。24.如申请专利范围第11项的探针系统,其中该讯号产生机构包含用来目视显示该探针电路是否正常操作的显示机构。图示简单说明:第一图为安装有熔渣侦测器,热电偶,氧传感器,及硫传感器的用于连续铸钢操作的浇斗及漏斗的概略剖面图;第二图为与本发明的阻抗监测电路组合的熔渣侦测器的概略电路图;第三图为本发明的阻抗监测电路的第一实施例的细部概略图;第四图为本发明的阻抗监测电路的第二实施例的部份概略图。 |
