发明名称 Method of forming DRAM cell having capacitor in separate substrate
摘要 Der Kondensator ist auf einem ersten Substrat (1) und ein Teil der Schaltungsanordnung mit einem Kontakt (K) ist auf einem zweiten Substrat (2) angeordnet. Das erste Substrat (1) ist mit dem zweiten Substrat (2) verbunden, wobei der Kontakt (K) an den Kondensator angrenzt. Die Verbindung des ersten Substrats (1) mit dem zweiten Substrat (2) kann im wesentlichen unjustiert erfolgen, wenn Teilkondensatoren auf dem ersten Substrat (1) verteilt sind und eine Kontaktfläche des Kontakts (K) so groß ist, daß beim Verbinden der Substrate (1,2) der Kontakt (K) in jedem Fall an mindestens einen der Teilkondensatoren angrenzt, der dann den Kondensator definiert. Der Kondensator kann mehrere Teilkondensatoren umfassen, wodurch seine Kapazität besonders groß wird. Die Schaltungsanordnung ist insbesondere eine DRAM-Zellenanordung. Zur Erzeugung der Teilkondensatoren werden z.B. durch elektro-chemisches Ätzen Poren in dem ersten Substrat erzeugt. <IMAGE>
申请公布号 EP0921572(A1) 申请公布日期 1999.06.09
申请号 EP19980115293 申请日期 1998.08.13
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 KLOSE, HELMUT;LEHMANN, VOLKER;REISINGER, HANS;HOENLEIN, WOLFGANG
分类号 H01L27/04;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108;H01L21/824;H01L21/320 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人
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