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发明名称 CMP ABRASIVE, LIQUID ADDITIVE FOR CMP ABRASIVE AND METHOD FOR POLISHING SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR100754103(B1) 申请公布日期 2007.08.31
申请号 KR20047019184 申请日期 1999.12.22
申请人 发明人
分类号 C09K3/14;B24B37/00;B24B37/04;B24D3/34;B44C1/22;C09G1/02;C09K13/00;H01L21/302;H01L21/3105 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人
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