| 摘要 |
본 발명은 염기 형태 또는 산 부가염 형태의 화학식 I의 화합물, 뿐만 아니라 상기 화합물의 제조 방법 및 치료 용도에 관한 것이다. <화학식 I>상기 식에서, n은 0, 1, 2, 3 또는 4이고; m은 0, 1 또는 2이고; o는 0 또는 1이고; X는 -CH, -CH(R')-, -NH(R')-, 또는 O 및 S로부터 선택된 헤테로원자이고; R'는 -(C1-C5)알킬, -(C1-C5)알콕시, -CH-아릴, -C(O)R5 또는 -COOR5이고; R1은 옥소, -COOR5, -W-OH 또는 -W-NR5R6이고; R2는 H 원자, 또는 (i) -(C1-C5)알킬, (ii) -(C1-C5)알콕시, (iii) -COOR5, (iv) -NR5R6, (v) -C(O)-NR5R6, (vi) -SO-NR3R4, (vii) -(C1-C5)알킬로 임의로 치환된 헤테로아릴, (viii) -W-아릴, (ix) -W-헤테로아릴, (x) -O-W-아릴, (xi) -O-W-헤테로아릴 및 (xii) -O-W-NR5R6으로부터 선택된 기이고; R3 및 R4는 동일하거나 상이할 수 있고, (i) 서로 독립적으로 H 원자, -(C1-C5)알킬, -(C3-C6)시클로알킬, 아릴, 헤테로아릴, -CH-헤테로아릴, -(C1-C5)알킬-NR5R6, -W-OH 또는 -W-NR5R6이거나; 또는 (ii) 그들을 보유하는 질소 원자와 함께, -(C1-C5)알킬 및 -CH-아릴 기로부터 선택된 1개 이상의 기로 임의로 치환된 헤테로시클로알킬 기를 형성하고; W는 1개 이상의 히드록실 기로 임의로 치환된 -(C1-C5)알킬렌 기를 나타내고; R5 및 R6은 동일하거나 상이할 수 있고, 서로 독립적으로 수소 원자, 또는 -(C1-C5)알킬 기 및 -(C3-C6)시클로알킬 기로부터 선택된 기이다. |
