| 发明名称 | 磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置及方法 | ||
| 摘要 | 本技术提供一种能够使得阴极表面气体密度分布均匀，进而保证镀膜厚度在阴极靶的长度方向上基本相同的磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置。它包括位于屏蔽罩内的阴极靶，在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。 | ||
| 申请公布号 | CN105714259A | 申请公布日期 | 2016.06.29 |
| 申请号 | CN201610161476.2 | 申请日期 | 2016.03.22 |
| 申请人 | 南京汇金锦元光电材料有限公司 | 发明人 | 王鲁南;朴賸一;王建华;全武贤;李锺允;窦立峰 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人 | 王清义 |
| 主权项 | 磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置，包括位于屏蔽罩内的阴极靶，其特征是：在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。 | ||
| 地址 | 210046 江苏省南京市经济技术开发区兴学路9号2号楼 | ||