| 主权项 |
1.一种图型比较验证装置,包括:占有率计算装置,用以将图型资料以像素区域来分割,而计算对于被分割之图型资料之上述像素区域的占有率;灰度位元映像作成装置,用以依据上述被分割之图型资料的占有率,而作为灰度位元映像;以及位元映像比较装置,用以比较由上述占有率计算装置及上述灰度位元映像作成装置所作成之设计图型资料的灰度位元映像与电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像,而判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。2.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述位元映像比较装置系算出上述设计图型资料之灰度位元映像的像素値与上述电子束描绘装置用图型资料之灰度位元映像的像素値之差的绝对値,若该像素値之差的绝对値大于既定的有效差値,则判定成不一致,而若上述像素値之差的绝对値为上述有效差値以上且大于既定的容许差値,则判定成警告,且若上述像素値之差的绝对値为容许差値以下,则判定成一致。3.一种图型比较验证装置,包括:占有率计算装置,用以将图型资料以像素区域来分割,而计算对于被分割之图型资料之上述像素区域的占有率;灰度位元映像作成装置,用以依据上述被分割之图型资料的占有率,而作为灰度位元映像;以及多重描绘检测装置,用以自藉由上述占有率计算装置及上述灰度位元映像作成装置所作成之电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像中,将占有率为既定値以上的像素区域当作多重描绘而检测出来。4.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述图型比较验证装置更包括:缩放量修正装置,用以对于灰度位元映像,修正因一律缩放所造成的相异;且上述位元映像比较装置系比较上述设计图型资料的灰度位元映像与由上述缩放量修正装置所修正之电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像,而判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。5.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述图型比较验证装置更包括:黑白反转装置,用以将灰度位元映像予以黑白反转;且上述位元映像比较装置系比较上述设计图型资料的灰度位元映像与藉由上述黑白反转装置而被黑白反转之上述电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像,而判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。6.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述图型比较验证装置更包括:比较判定値算出装置,用以由上述电子束描绘装置用图型资料的栅格尺寸、缩放量及像素尺寸来算出容许差値及有效差値;上述位元映像比较装置系比较上述设计图型资料之灰度位元映像的像素値与上述电子束描绘装置用图型资料之灰度位元映像的像素値之差的绝对値,若该像素値之差的绝对値大于上述有效差値,则判定成不一致,而若上述像素値之差的绝对値为上述有效差値以下且大于上述容许差値,则判定成警告,且若上述像素値之差的绝对値为上述容许差値以下,则判定成一致。7.如申请专利范围第4项所述的图型比较验证装置,其中上述缩放量修正装置系对于灰度位元映像来检测图型的外周边缘,而修正仅该外周边缘之图型的相异。8.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述位元映像比较装置系于判定比较对象的像素时,比较上述设计图型资料的灰度位元映像与上述电子束描绘装置用图型资料之灰度位元映像内之邻接于上述比较对象之像素之9个像素的像素値,而判定是否一致。9.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述图型比较验证装置更包括:缩放量修正装置,用以对于灰度位元映像,依据每图型所给予的缩放量,而修正图型的相异;且上述位元映像比较装置系比较上述设备图型资料的灰度位元映像与由上述缩放量修正装置所修正之上述电子束描绘装置用的灰度位元映像,而判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。10.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述图型比较验证装置更包括:判定结果资讯加工装置,用以依据藉由上述位元映像比较装置而被判定成不一致之像素的位置资讯,而产生识别被判定成不一致之像素及被判定成一致之像素的确认用图型。11.如申请专利范围第1项所述的图型比较验证装置,其中上述位元映像比较装置系对于包含有邻接于预先被设定之比较区域之外侧之图型的电子束描绘装置用图型资料,来检测图型的外周边缘,而作成修正仅该外周边缘之像素之图型之缩放的灰度位元映像,进而于上述比较区域内施行上述设计图型资料的灰度位元映像与上述被修正的位元映像的比较,以判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。12.一种图型比较验证方法,包括下列步骤:以像素区域来分割设计图型资料,而计算对于该被分割之设计图型资料之上述像素区域的占有率;依据上述被分割之设计图型资料的占有率,而作成灰度位元映像;以上述像素区域来分割电子束描绘装置用图型资料,而计算对于该被分割之电子束描绘装置用图型资料之上述像素区域的占有率;依据上述被分割之电子束描绘装置用图型资料的占有率,而作成灰度位元映像;以及比较上述设计图型资料的灰度位元映像与上述电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像,而判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。13.一种图型比较验证方法,包括下列步骤:以像素区域来分割电子束描绘装置用图型资料,而计算对于该被分割之电子束描绘装置用图型资料之上述像素区域的占有率;依据上述被分割之电子束描绘装置用图型资料的占有率,而作成灰度位元映像;以及由上述电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像中,将占有率为既定値以上的像素区域当作多重描绘来检测出。14.一种记录图型比较验证程式之媒体,包括下列步骤:以像素区域来分割设计图型资料,而计算对于该被分割之设计图型资料之上述像素区域的占有率;依据上述被分割之设计图型资料的占有率,而作成灰度位元映像;以上述像素区域来分割电子束描绘装置用图型资料,而计算对于该被分割之电子束描绘装置用图型资料之上述像素区域的占有率;依据上述被分割之电子束描绘装置用图型资料的占有率,而作成灰度位元映像;以及比较上述设计图型资料的灰度位元映像与上述电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像,而判定上述设计图型资料与上述电子束描绘装置用图型资料是否一致。15.一种记录图型比较验证程式之媒体,包括下列步骤:以像素区域来分割电子束描绘装置用图型资料,而计算对于该被分割之电子束描绘装置用图型资料之上述像素区域的占有率;依据上述被分割之电子束描绘装置用图型资料的占有率,而作成灰度位元映像;以及由上述电子束描绘装置用图型资料的灰度位元映像中,将占有率为既定値以上的像素区域当作多重描绘来检测出。图示简单说明:第一图系显示本发明之图型比较验证装置的外观图。第二图系显示本发明之图型比较验证装置之构造的方块图。第三图系显示本发明之实施例一之图型比较验证装置之构造的方块图。第四图系显示于实施例一之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第五图系显示由设计图型资料所作成的灰度位元映像、由EB图型资料所作成的灰度位元映像以及各灰度位元映像的比较结果的图。第六图系显示于本发明之实施例二之图型比较验证装置之构造的方块图。第七图系显示于实施例二之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第八图系显示由EB图型资料所作成之灰度位元映像的图。第九图系显示于本发明之实施例三之图型比较验证装置之构造的方块图。第十图系显示于实施例三之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第十一图系显示由EB图型资料所作成的检查位元映像、由检查位元映像减去像素値变化量d的位元映像及缩放量被修正的检查位元映像的图。第十二图系显示于本发明之实施例四之图型比较验证装置之构造的方块图。第十三图系显示于实施例四之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第十四图系显示由EB图型资料所作成的检查位元映像及反转后的检查位元映像的图。第十五图系显示本发明之实施例五之图型比较验证装置之构造的方块图。第十六图系显示于实施例五之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第十七图系说明容许差値之算出方法的图。第十八图系说明有效差値之算出方法的图。第十九图系显示于实施例六之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第二十图系说明修正仅图型之外周边缘之方法的图。第二一图系显示于实施例七之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第二二图系显示邻接之9个像素中具有较有效差値大之像素値的差之场合之图型之一例的图。第二三图系显示邻接之9个像素中较容许差値大之像素値的差为3个以上之场合之图型之一例的图。第二四图系显示邻接之9个像素中较容许差値大之像素値的差为一个之场合之图型之一例的图。第二五图系显示于实施例八之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第二六图系显示于本发明之实施例九之图型比较验证装置之构造的方块图。第二七图系显示于实施例九之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第二八图系显示于实施例十之图型比较验证装置之处理顺序的流程图。第二九图系说明设定比较区域之场合之缩放量之修正的图。第三十图系显示习知图型比较装置之构造的方块图。第三一图系显示由设计图型资料所作成之二进位基准位元映像、由电子束描绘装置用图型资料所作成之二进位检查位元映像及各位元映像之比较结果的图。第三二图系显示由设计图型资料所作成之二进位基准位元映像、对电子束描绘装置用图型资料施行缩放(sizing)处理之场合之二进位检查位元映像及各位元映像之比较结果的图。第三三图系由设计图型资料所作成的二进位基准位元映像、将电子束描绘装置用图型资料予以黑白反转之场合的二进位检查位元映像以及各位元映像的比较结果的图。 |
