发明名称 METHOD FOR COMPENSATING ELECTRON BEAM EXPOSURE
摘要
申请公布号 KR100256519(B1) 申请公布日期 2000.06.01
申请号 KR19970040912 申请日期 1997.08.23
申请人 NEC CORPORATION 发明人 TAMURA, TAKAO
分类号 G03F7/20;H01J37/304;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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