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发明名称
METHOD FOR COMPENSATING ELECTRON BEAM EXPOSURE
摘要
申请公布号
KR100256519(B1)
申请公布日期
2000.06.01
申请号
KR19970040912
申请日期
1997.08.23
申请人
NEC CORPORATION
发明人
TAMURA, TAKAO
分类号
G03F7/20;H01J37/304;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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