| 发明名称 | 非氧化性气氛用窑具 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种非氧化性气氛用窑具，主要成分为SiC与Si<SUB>3</SUB>N<SUB>4</SUB>和/或Si<SUB>2</SUB>N<SUB>2</SUB>O，并且含有氮氧化硅和氧化硅以外的无机氧化物0.12～3.0质量％。该窑具即使是在氧浓度为1000ppm以下的非氧化性氛围下，也能够防止强度显著劣化甚至破损，同时能够大幅度提高实际使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN100417625C | 申请公布日期 | 2008.09.10 |
| 申请号 | CN200610139235.4 | 申请日期 | 2006.09.20 |
| 申请人 | 日本碍子株式会社;NGK阿德列克株式会社 | 发明人 | 古宫山常夫;山川治;堀清一 |
| 分类号 | C04B35/565(2006.01);C04B35/66(2006.01);F27D3/12(2006.01) | 主分类号 | C04B35/565(2006.01) |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 钟晶 |
| 主权项 | 1. 非氧化性气氛用窑具，其特征在于，其主要成分为SiC与Si3N4和/或Si2N2O，并且含有氮氧化硅和氧化硅以外的无机氧化物0.12～3.0质量％，所述无机氧化物的元素成分的含量为，Al源0.06～1质量％、Fe源0.3～0.5质量％、Ca源0.003～0.01质量％、Ni源0.004～0.01质量％、Zr源0.0008～0.01质量％、O源0.5～3质量％；所述非氧化性气氛用窑具的弯曲强度减少率不超过15％。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||