PHOTOMASK DEFECT REPAIR METHOD,申请号KR19950018120-传众专利搜索

发明名称	PHOTOMASK DEFECT REPAIR METHOD
摘要
申请公布号	KR0141147(B1)	申请公布日期	1998.06.15
申请号	KR19950018120	申请日期	1995.06.29
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO.,LTD	发明人	KO, JAE-BUM
分类号	G03F1/72;(IPC1-7):G03F1/00	主分类号	G03F1/72
代理机构		代理人
主权项
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