METHOD OF TREATING A SURFACE OF AT LEAST ONE PART BY MEANS OF INDIVIDUAL SOURCES OF AN ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA

摘要

Ce procédé consiste à soumettre la ou les pièces (1) à au moins un mouvement de révolution par rapport à au moins une rangée linéaire fixe de sources élémentaires (2), la ou lesdites rangées linéaires de sources élémentaires (2) étant disposée(s) d'une manière parallèle à l'axe ou aux axes de révolution de la ou des pièce(s).