| 摘要 |
본 발명의 과제는 미세 패턴의 전사성을 향상시킨 표시 장치 제조용 포토마스크를 제공하는 것이다. 투명 기판 상에, 위상 시프트막, 에칭 마스크막, 차광막이, 각각 웨트 에칭에 의해 패터닝됨으로써, 차광부, 위상 시프트부, 투광부를 포함하는 전사용 패턴이 형성되어 이루어지는 표시 장치 제조용 포토마스크로서, 상기 차광부는, 상기 위상 시프트막, 상기 에칭 마스크막, 상기 차광막이 이 순서로 적층되어 이루어지고, 상기 위상 시프트부는, 상기 위상 시프트막이거나, 또는, 상기 위상 시프트막과 상기 에칭 마스크막이 이 순서로 적층되어 이루어지고, 상기 투광부는, 상기 투명 기판 표면이 노출되어 이루어지고, 상기 위상 시프트막은, 크롬을 함유하는 재료로 이루어지고, 상기 에칭 마스크막은, 상기 위상 시프트막의 에칭액에 대해, 에칭 내성을 갖는 재료로 이루어지고, 상기 위상 시프트부와, 상기 투광부는, 서로 인접하는 부분을 갖고, 또한, 상기 위상 시프트부와 상기 투광부는, 상기 포토마스크의 노광광의 대표 파장에 대해, 대략 180도의 위상차를 갖는 것인, 표시 장치 제조용 포토마스크이다. |
