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发明名称 DISPOSITIF POUR DESSINER OPTIQUEMENT DES MASQUES POUR DES COMPOSANTS A SEMICONDUCTEURS SOUS LA DEMANDE D'UN CALCULATEUR
摘要
申请公布号 BE832918(A1) 申请公布日期 1976.03.01
申请号 BE19750159612 申请日期 1975.08.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;G02B5/32;G03F1/00;G03F1/08;G03F7/20;G03H1/00;(IPC1-7):H01L/ 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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