| 主权项 |
1.一种两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,包括有:一固定座;一公模治具,其系固定于固定座上,该公模台具上设有一导引槽,另锁固有齿条,一公模系固定于该公模治具上;一母模治具,其系以适当的直线运动单元支撑于固定座上,可作直线上下运动,另锁固有齿条,一母模系固定于该人母模治具下;一圆管基座,其系固定于母模治具之下端;两承台,其系固定于连接块上,另设有外侧齿轮及内侧齿轮锁于齿轮安装杆上,齿轮安装杆系枢设于连连接块中,外侧齿轮系与公模治具上之齿条采用相同模数且相配合,内侧齿轮系与母模治具上之齿条采用相同模数且相配合,该承台上各设有一导引槽,连接块系以适当的直线运动单元支撑,可作上下直线运动;以及一排料片,其固定于固定座上。2.如申请专利范围第1项所述之两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,其中之公模治具可以一公模治具调整块配合螺丝调整前后之移动,另可以固定座两侧配合之螺丝调整公模治具左右之移动。3.如申请专利范围第1项所述之两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,其中之母模治具固定于一大滑块上,该大滑块系配合于一大滑轨上,大滑轨固定于一大滑轨座上,大滑轨座再固定于固定座上,以构成直线运动单元支撑母模治具。4.如申请专利范围第1项所述之两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,其中之外侧齿轮与内侧齿轮可为相同模数及齿数。5.如申请专利范围第1项所述之两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,其中之连接块系固定于小滑块上,小滑块配合于小滑轨上,以构成直线运动单元。6.如申请专利范围第1项所述之两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,其中之母模治具上方适当固定一气压缸,母模治具之上端连接于气压缸之气压缸杆前端。7.如申请专利范围第6项所述之两侧承台伴随升降之圆管滚压机构,其中之气压缸系锁固于一气压缸安装板上,气压缸安装板以多数根支撑杆所支撑锁固,支撑杆下端固定于固定座上。图式简单说明:第一图系习用直线式滚压机构之平面示意图。第二图系习用旋转式滚压机构之平面示意图。第三图系习用转环结合前及结合后之立体示意图。第四图系本创作之立体图。第五图系本创作之正视示意图。第六图系本创作之正视图。第七图系本创作之侧视图。第八图系本创作之俯视图。 |
