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发明名称 Formation of a negative resist pattern utilize water-soluble polymeric material and photoacid generator
摘要
申请公布号 US5017461(A) 申请公布日期 1991.05.21
申请号 US19890322037 申请日期 1989.03.13
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 ABE, NAOMICHI
分类号 G03F7/38;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/20;G03F7/30 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
主权项
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