| 发明名称 |
POROUS REGION REMOVING METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH11204494(A) |
申请公布日期 |
1999.07.30 |
| 申请号 |
JP19980003397 |
申请日期 |
1998.01.09 |
| 申请人 |
CANON INC |
发明人 |
SAKAGUCHI KIYOBUMI;YANAGIDA KAZUTAKA |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/306;H01L21/762;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
