发明名称 | 按照图案将材料转移到经等离子体处理表面的方法及材料 | ||
摘要 | 一种转移方法,将给体片上的待转移元件转移到受体上。包括在受体基材上形成一个有机层和在给体片上形成一个待转移元件,该待转移元件的外露面为有机物。采用等离子体处理糙化有机层的表面或待转移元件外露面(或它们两者)。然后将给体片上的待转移元件选择性地转移到有机层表面上。 | ||
申请公布号 | CN1599669A | 申请公布日期 | 2005.03.23 |
申请号 | CN02824069.3 | 申请日期 | 2002.10.17 |
申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | E·贝尔曼;R·帕迪亚斯;J·P·贝特佐德 |
分类号 | B41M5/00;B41M5/38;H01L51/40 | 主分类号 | B41M5/00 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 周承泽 |
主权项 | 1.一种将待转移元件从给体片转移到受体上的转移方法,该方法包括:在受体基材上形成有机物电荷转移层;采用等离子体处理该电荷转移层的表面,使其糙化;进行选择性热转移,将给体片上的待转移元件转移到表面糙化后的电荷转移层表面,该待转移元件包含至少一个发光层。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |