| 摘要 |
一种光学层积体之制造方法，其特征在于至少包括以下各步骤：由再剥离性基板/接着剂层/液晶物质层组成之层积体(A)的第一制备步骤，将配向基板上配向固定的液晶物质层经由接着剂层接着于再剥离性基板上后，剥离该配向基板使液晶物质层转写于再剥离性基板上；由再剥离性基板/接着剂层/液晶物质层/黏着剂层(接着剂层)/高分子延伸薄膜所构成层积体的第二制备步骤，将层积体(A)经由黏着剂层(接着剂层)接着于高分子延伸薄膜上；以及剥离上述层积体的再剥离性基板，并将一偏光板贴合于上述接着剂层或高分子延伸薄膜上的第三步骤，或是由高分子延伸薄膜/接着剂层/液晶物质层组成之层积体的制备步骤，将配向基板上配向固定的液晶物质层经由接着剂层接着于高分子延伸薄膜上后，剥离该配向基板使液晶物质层转写于高分子延伸薄膜上，以及于该层积体的高分子延伸薄膜面或液晶物质层面利用黏着剂层(接着剂层)贴上偏光板。利用上述制法可提供各种由无支持基板膜的液晶物质层所组成光学零件的层积方法。 |
