| 主权项 |
1.一种输送带之传动机构,系用于输送制程反应室 之玻璃基板,该传动机构包含: 一传动轴,系与该输送带相结合,并以转动方式带 动该输送带以及该输送带上之玻璃基板朝一特定 方向移动; 一齿轮组,系与该传动轴相结合,并提供该传动轴 转动所需之动力输出; 一第一滋润槽,包含一注水管,可将滋润液导入该 第一滋润槽中,以及一第一排水管,该第一排水管 之管口系设在该第一滋润槽内之特定高度处,用以 控制该第一滋润槽内之滋润液高度,其中该齿轮组 系容置于该第一滋润槽中,并利用该滋润液对该齿 轮组的转动进行润滑;以及 一第二滋润槽,设于该第一滋润槽之外围,该第二 滋润槽可接收溢出该第一滋润槽之滋润液,以避免 溢出之滋润液对该制程反应室之环境造成污染。 2.如申请专利范围第1项之传动机构,其中上述之制 程反应室系一蚀刻反应室。 3.如申请专利范围第2项之传动机构,其中上述之蚀 刻反应室更包含至少一个喷嘴,用以喷洒蚀刻溶液 ,对该玻璃基板进行蚀刻程序。 4.如申请专利范围第1项之传动机构,其中上述之齿 轮组系包含一主动齿轮以及一传动齿轮,其中该主 动齿轮系与提供转动动力来源之马达相连结,再与 该传动齿轮相啮合,以带动该传动轴之转动。 5.如申请专利范围第1项之传动机构,其中上述之第 二滋润槽更包含一第二排水管,系用以将溢自该第 一滋润槽之滋润液导出该制程反应室。 6.如申请专利范围第5项之传动机构,其中上述之第 二排水管之孔径系大于该第一排水管之孔径。 7.如申请专利范围第5项之传动机构,其中上述之第 一排水管系位于该第二排水管之中。 8.如申请专利范围第1项之传动机构,其中上述之滋 润液系选自化学液、去离子水、电解水、纯水其 中之一。 图式简单说明: 第一图为蚀刻步骤之装置示意图。 第二图为习知反应室中之传动机构的齿轮组暨齿 轮滋润槽之局部放大示意图。 第三图为根据本发明反应室中之传动机构的齿轮 组暨齿轮滋润槽之局部放大示意图。 |
