| 发明名称 |
Process for filling a cavity in a semiconductor device |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0793268(A3) |
申请公布日期 |
1999.03.03 |
| 申请号 |
EP19960108163 |
申请日期 |
1996.05.22 |
| 申请人 |
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED |
发明人 |
WEI-YUNG HSU;QI-ZHONG HONG |
| 分类号 |
H01L21/283;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/320 |
主分类号 |
H01L21/283 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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