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<p>Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage weist wenigstens ein optisches Element (140, 240, 340, 440) auf, wobei auf dieses optische Element (140, 240, 340, 440) ein linear polarisiertes Eingangsbüschel trifft, welches ein Winkelspektrum aufweist, wobei ein maximaler Öffnungswinkel des Eingangsbüschels am Ort des optischen Elementes (140, 240, 340, 440) nicht mehr als 35 mrad beträgt, und wobei ein um die optische Achse (SA) rotationssymmetrischer Anteil einer in der Beleuchtungseinrichtung vorhandenen Doppelbrechung durch das optische Element (140, 240, 340, 440) wenigstens teilweise kompensiert wird.</p> |
