| 摘要 |
리액터는 반응 챔버 (16) 및 배기 어셈블리 (18) 에 동작적으로 접속된 가스 전달 시스템 (14) 을 인클로징하는 하우징을 갖는다. 가스 전달 시스템은 반응 챔버에 적어도 하나의 프로세스 가스를 제공하는 복수의 가스 라인을 포함한다. 가스 전달 시스템은 적어도 하나의 프로세스 가스를 수신하기 위해 믹서 (20) 를 더 포함한다. 믹서는 프로세스 가스를 확산시키도록 구성되는 디퓨져 (22) 에 동작적으로 접속된다. 디퓨져는 반응 챔버의 상부면 (24) 에 직접 부착되어, 그들 사이에 디퓨져 볼륨을 형성한다. 디퓨져는 프로세스 가스가 반응 챔버 내로 도입되기 전에 디퓨져 볼륨을 통과할 때 그 프로세스 가스에 흐름 제한을 제공하도록 구성되는 적어도 하나의 분배면을 포함한다. 반응 챔버는 반도체 기판이 프로세싱을 위해 배치되는 반응 공간을 규정한다. 배기 어셈블리는 반응 공간으로부터 미반응 프로세스 가스 및 폐수를 빼내기 위해 반응 챔버에 동작적으로 접속된다. |
