一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置

摘要

本实用新型提供了一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置，属于磁控溅射技术领域。它包括进出水通道法兰、靶材和阳极框，所述的靶材基座机构包括水冷背板和基座垫环，所述的水冷背板固定在基座垫环的上方，所述的基座垫环的筒壁上设有两个与壁厚平行且成180度对称分布的孔，分别为垫环进水孔和垫环出水孔，且该垫环进水孔和垫环出水孔与冷却水通道在同一直线上。本实用新型具有冷却效果好、不易腐蚀关键部件、安全系数高等优点。

主权项

一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置，包括进出水通道法兰(1)、靶材(2)和阳极框(3)，所述的进出水通道法兰(1)的上方设有磁轭(4)，磁轭(4)和进出水通道法兰(1)之间设有通有冷却液的冷却水通道(5)，所述的进出水通道法兰(1)的上方罩有一靶材基座机构(6)，靶材基座机构(6)的上方设有靶材(2)，所述的阳极框(3)罩在靶材(2)和进出水通道法兰(1)的上方，阳极框(3)的底端镶嵌有阳极罩(7)，其特征在于：所述的靶材基座机构(6)包括水冷背板(61)和基座垫环(62)，所述的水冷背板(61)固定在基座垫环(62)的上方，所述的基座垫环(62)的筒壁上设有两个与壁厚平行且成180度对称分布的孔，分别为垫环进水孔(621)和垫环出水孔(622)，且该垫环进水孔(621)和垫环出水孔(622)与冷却水通道(5)在同一直线上。