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发明名称 SPUTTERING APPARATUS AND SPUTTERING METHOD
摘要
申请公布号 JPH0855801(A) 申请公布日期 1996.02.27
申请号 JP19940210626 申请日期 1994.08.10
申请人 TOKYO ELECTRON LTD;NIPPONDENSO CO LTD 发明人 YAMAOKA TORU;NIZEKI SHINICHIROU;YAMAUCHI TAKESHI;KATSUKAWA YASUSHI;OTA SUSUMU
分类号 C23C14/34;H01L21/203;(IPC1-7):H01L21/203 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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